第182章 救星来了!
第182章救星来了!
临安,苏省大学微电子学院。
“通入六甲基二硅胺烷……”
“硅片脱水完成,增粘处理完成,开始旋转涂胶。”
“……”
这已经是他们不知道进行了多少次的实验流程了,除了操作员时不时进行流程汇报之外,实验内悄然无声。
数十名研发人员都静静地坚守着自己的岗位,偶尔抬头看一眼设备运行情况,以及站在操控台中间的那位老人。
“涂胶检测完毕,未发现气泡,开始曝光前烘……前烘完毕,光刻机准备曝光……”
在实验有条不紊的推进中,终于到了曝光环节。
每次进入曝光环节,那短短的十秒钟,都让吴利鸿感觉像一个世纪那么长……
而在曝光的过程中,加装在工件台的的测量仪器也在同时进行疯狂的数据收集。
“曝光结束,进入后烘环节,曝光数据正在分析中……”
“曝光过程总产气量……”汇报结果的研究员停顿了一下,然后用颤抖的语气念出了数值,“289立方纳米!”
哗——!
听到这个结果,整个实验室都顿时安静了下来,随后便是阵阵惊呼声。
“竟然真是光致产酸剂BR-侧键的问题!”
“吴院士牛逼啊!”
“……”
虽然后烘的具体数据还没出来,但光是这个产气量的数据,就已经称得上是史无前例的重大突破了!
涂满12寸的硅片光刻胶,在曝光的过程中,才产出了仅仅289立方纳米的气体,
而这么小的产气量,光刻胶的曝光边缘肯定非常光滑平整。
这就意味着更高的清晰度,以及更低的制程。
可以说,他们已经彻底解决了光刻胶最棘手的产气量问题!
吴利鸿听到这个数据后,脸上也不禁浮现起了一抹如释重负的笑容,但这却让他的脸上的皱纹褶子更多了……
过了大约十分钟,曝光后的硅片也已经完成了后烘,并对曝光部分的光刻胶进行了溶解清除,然后又进行了一次坚膜烘焙,加固光刻胶形成的电路保护膜。
接下来,就是他们这个实验环节最重要的电路图像清晰度分析了。
而最终的分析结果也果然不出他们所料,在降低了98%的产气量后,他们得到的电路保护膜,表面非常光滑平整,没有出现任何坍塌变形!
“膜厚正常,套刻精度正常!”
听到这个结果,所有人顿时都激动的看着吴利鸿。
事实上实验进行到了这一步,已经基本可以肯定他们的EUV光刻胶,已经达到了13.5纳米的制程标准。
因为他们苏省微电子的所有精力,都用来研发光刻胶了,对多重曝光等压缩制程的工艺,没有太多的研究,所以13.5纳米只是他们研究所的最小制程工艺。
而这款光刻胶具体的最小制程,得找申城硅产业或者立昂微来做进一步的验证,尤其是最早拿到EUV光刻机的申城硅产业,经过这几个月的摸索调试,他们已经把制程工艺推到了5nm。
不过为了稳妥起见,吴利鸿还是按捺住激动的心情,对大家开口道:“立即准备蚀刻实验验证,确认最后的环节没问题再送到申城硅产业去。”
“明白!”
研究员们听到后,顿时又开始忙碌了起来。
本来按照他们之前的实验流程,实验到了这一步基本就是失败了,这次其实根本就没有做好进入蚀刻环节的准备。
但面对这个意想不到的巨大惊喜,大家却没有一丝‘临时加班’的怨言,一个个都吭哧吭哧地开始重新准备实验。
两个小时后,最终结果终于出炉了。
他们研发的光刻胶,成功地经受干法刻蚀中高能粒子的洗礼,顺利完成了保护硅片基底的任务,芯片良品率高达98%!
在吴利鸿院士的带领下,苏省大学微电子研究员,终于成功研发出了一款能胜任13.5nm制程的国产顶级EUV光刻胶!
而且这个13.5纳米制程,只是目前的初步实验结论。
从他们这次得到的套刻精度来看,这款光刻胶实际上有相当大的可能,可以胜任5纳米制程芯片的制造!
吴利鸿也非常沉得住气,没有选择立即将实验结果上报上去,而是让研究员们按照上次的配方,重新调配了一批光刻胶。
然后重复做了足足十次实验,确认每次的结果误差都在可接受的范围内后,才带着光刻胶和团队的主要技术人员飞往魔都,来到了申城硅产业集团。
此时的申城硅产业的集团总裁陈云明恰好在和华威的余总和何总,讨论华威P6的芯片代工问题。
而双方讨论的要点,就是产量和成本的问题。
华威本着量大从优的道理,想要直接订购两千万枚麒零9000。
但申城硅产业现在,其实也就只有一台秦光一号。
按照秦光一号每小时180片的硅片吞吐量,以及制造出的每片晶圆可以切割出500枚芯片来算,一台光刻机每天的产能应该有216万枚。
但实际上,光刻机的吞吐量不代表晶圆的制造速度,而是要根据不同芯片的设计,进行多次曝光和蚀刻。
以麒零9000为例,它需要经过足足19次光刻-蚀刻循环,才能完成整个晶圆制造环节,
也就是说,每天理论上只能造11万枚。
这还是建立在设备24小时不停机休息和维护,以及100%良率的基础之上。
因此实际产能,平均每天能有8万枚,就已经很不错了。
两千万枚芯片的订单,要差不多八个月才能完成,还是把所有产能,都压榨给华威的情况下。
何况在如此高负荷的运转下,他们光刻胶的库存,都不知道能不能撑得住……
“……我们也得考虑成本,也要时间来研发3nm的制程工艺,希望你们也能考虑一下我们的难处。”
陈云明实在有点受不了两位老总的软磨硬泡,最终拍板道,
“要不就这样吧,我给你两个方案,一个是150元300万枚,一个是200元600万枚,600万是极限,已经很够意思了。”
“呃……”
余总立刻在心里算了一笔账。
按照台机电5纳米制程,13400美元/片晶圆的价格来算,约等于每枚5nm制程的芯片代工费,是187元。
但台积电的代工是按晶圆来算的,废品都给你算钱了,而陈云明刚刚报的是当个芯片价格,等于去掉了废品,所以150-200元的代工费,在这个特殊时期,确实相当厚道了。
“可是陈总,这买卖哪有越多越贵的道理……”
“这不是情况特殊嘛,如果在库存光刻胶消耗完之前,国产光刻胶没有动静,那我们有光刻机也没得用啊,只能先省着点花了……”
“其实还有个办法,就是伱们去找康博士借点光刻胶给我们,那小子贼精得很,早早地就让我们帮他屯光刻胶了,现在大汉芯业的光刻机屯得比我们还多!”
每每想到这里,陈云明都有点后悔当初没有听康驰的,提前多屯点光刻胶。
主要是,当初谁能想到他能这么快搞出EUV光刻机……
就在余总还在考虑着,六百万枚到底能撑多久的时候,陈云明突击接到了吴利鸿的电话。
“吴院士?等等……你说什么?测试光刻胶?就到楼下了?!”
“……”
放下电话的陈云明,过了半响才缓过神,然后连忙打了个电话给董建元,让他下去接吴利鸿。
处理完这些后,他才转头看向华威的两个老总,一脸激动地说道:“我们的救星来了!”
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临安,苏省大学微电子学院。
“通入六甲基二硅胺烷……”
“硅片脱水完成,增粘处理完成,开始旋转涂胶。”
“……”
这已经是他们不知道进行了多少次的实验流程了,除了操作员时不时进行流程汇报之外,实验内悄然无声。
数十名研发人员都静静地坚守着自己的岗位,偶尔抬头看一眼设备运行情况,以及站在操控台中间的那位老人。
“涂胶检测完毕,未发现气泡,开始曝光前烘……前烘完毕,光刻机准备曝光……”
在实验有条不紊的推进中,终于到了曝光环节。
每次进入曝光环节,那短短的十秒钟,都让吴利鸿感觉像一个世纪那么长……
而在曝光的过程中,加装在工件台的的测量仪器也在同时进行疯狂的数据收集。
“曝光结束,进入后烘环节,曝光数据正在分析中……”
“曝光过程总产气量……”汇报结果的研究员停顿了一下,然后用颤抖的语气念出了数值,“289立方纳米!”
哗——!
听到这个结果,整个实验室都顿时安静了下来,随后便是阵阵惊呼声。
“竟然真是光致产酸剂BR-侧键的问题!”
“吴院士牛逼啊!”
“……”
虽然后烘的具体数据还没出来,但光是这个产气量的数据,就已经称得上是史无前例的重大突破了!
涂满12寸的硅片光刻胶,在曝光的过程中,才产出了仅仅289立方纳米的气体,
而这么小的产气量,光刻胶的曝光边缘肯定非常光滑平整。
这就意味着更高的清晰度,以及更低的制程。
可以说,他们已经彻底解决了光刻胶最棘手的产气量问题!
吴利鸿听到这个数据后,脸上也不禁浮现起了一抹如释重负的笑容,但这却让他的脸上的皱纹褶子更多了……
过了大约十分钟,曝光后的硅片也已经完成了后烘,并对曝光部分的光刻胶进行了溶解清除,然后又进行了一次坚膜烘焙,加固光刻胶形成的电路保护膜。
接下来,就是他们这个实验环节最重要的电路图像清晰度分析了。
而最终的分析结果也果然不出他们所料,在降低了98%的产气量后,他们得到的电路保护膜,表面非常光滑平整,没有出现任何坍塌变形!
“膜厚正常,套刻精度正常!”
听到这个结果,所有人顿时都激动的看着吴利鸿。
事实上实验进行到了这一步,已经基本可以肯定他们的EUV光刻胶,已经达到了13.5纳米的制程标准。
因为他们苏省微电子的所有精力,都用来研发光刻胶了,对多重曝光等压缩制程的工艺,没有太多的研究,所以13.5纳米只是他们研究所的最小制程工艺。
而这款光刻胶具体的最小制程,得找申城硅产业或者立昂微来做进一步的验证,尤其是最早拿到EUV光刻机的申城硅产业,经过这几个月的摸索调试,他们已经把制程工艺推到了5nm。
不过为了稳妥起见,吴利鸿还是按捺住激动的心情,对大家开口道:“立即准备蚀刻实验验证,确认最后的环节没问题再送到申城硅产业去。”
“明白!”
研究员们听到后,顿时又开始忙碌了起来。
本来按照他们之前的实验流程,实验到了这一步基本就是失败了,这次其实根本就没有做好进入蚀刻环节的准备。
但面对这个意想不到的巨大惊喜,大家却没有一丝‘临时加班’的怨言,一个个都吭哧吭哧地开始重新准备实验。
两个小时后,最终结果终于出炉了。
他们研发的光刻胶,成功地经受干法刻蚀中高能粒子的洗礼,顺利完成了保护硅片基底的任务,芯片良品率高达98%!
在吴利鸿院士的带领下,苏省大学微电子研究员,终于成功研发出了一款能胜任13.5nm制程的国产顶级EUV光刻胶!
而且这个13.5纳米制程,只是目前的初步实验结论。
从他们这次得到的套刻精度来看,这款光刻胶实际上有相当大的可能,可以胜任5纳米制程芯片的制造!
吴利鸿也非常沉得住气,没有选择立即将实验结果上报上去,而是让研究员们按照上次的配方,重新调配了一批光刻胶。
然后重复做了足足十次实验,确认每次的结果误差都在可接受的范围内后,才带着光刻胶和团队的主要技术人员飞往魔都,来到了申城硅产业集团。
此时的申城硅产业的集团总裁陈云明恰好在和华威的余总和何总,讨论华威P6的芯片代工问题。
而双方讨论的要点,就是产量和成本的问题。
华威本着量大从优的道理,想要直接订购两千万枚麒零9000。
但申城硅产业现在,其实也就只有一台秦光一号。
按照秦光一号每小时180片的硅片吞吐量,以及制造出的每片晶圆可以切割出500枚芯片来算,一台光刻机每天的产能应该有216万枚。
但实际上,光刻机的吞吐量不代表晶圆的制造速度,而是要根据不同芯片的设计,进行多次曝光和蚀刻。
以麒零9000为例,它需要经过足足19次光刻-蚀刻循环,才能完成整个晶圆制造环节,
也就是说,每天理论上只能造11万枚。
这还是建立在设备24小时不停机休息和维护,以及100%良率的基础之上。
因此实际产能,平均每天能有8万枚,就已经很不错了。
两千万枚芯片的订单,要差不多八个月才能完成,还是把所有产能,都压榨给华威的情况下。
何况在如此高负荷的运转下,他们光刻胶的库存,都不知道能不能撑得住……
“……我们也得考虑成本,也要时间来研发3nm的制程工艺,希望你们也能考虑一下我们的难处。”
陈云明实在有点受不了两位老总的软磨硬泡,最终拍板道,
“要不就这样吧,我给你两个方案,一个是150元300万枚,一个是200元600万枚,600万是极限,已经很够意思了。”
“呃……”
余总立刻在心里算了一笔账。
按照台机电5纳米制程,13400美元/片晶圆的价格来算,约等于每枚5nm制程的芯片代工费,是187元。
但台积电的代工是按晶圆来算的,废品都给你算钱了,而陈云明刚刚报的是当个芯片价格,等于去掉了废品,所以150-200元的代工费,在这个特殊时期,确实相当厚道了。
“可是陈总,这买卖哪有越多越贵的道理……”
“这不是情况特殊嘛,如果在库存光刻胶消耗完之前,国产光刻胶没有动静,那我们有光刻机也没得用啊,只能先省着点花了……”
“其实还有个办法,就是伱们去找康博士借点光刻胶给我们,那小子贼精得很,早早地就让我们帮他屯光刻胶了,现在大汉芯业的光刻机屯得比我们还多!”
每每想到这里,陈云明都有点后悔当初没有听康驰的,提前多屯点光刻胶。
主要是,当初谁能想到他能这么快搞出EUV光刻机……
就在余总还在考虑着,六百万枚到底能撑多久的时候,陈云明突击接到了吴利鸿的电话。
“吴院士?等等……你说什么?测试光刻胶?就到楼下了?!”
“……”
放下电话的陈云明,过了半响才缓过神,然后连忙打了个电话给董建元,让他下去接吴利鸿。
处理完这些后,他才转头看向华威的两个老总,一脸激动地说道:“我们的救星来了!”
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